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硅片清洗機工作原理是什么 硅片清洗機操作說明

本文章由注冊用戶 淺嘗不止— 上傳提供 2023-07-20 評論 0
摘要:半導體器件生產中硅片須經嚴格清洗,即使是微量污染也會導致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質,包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態或離子狀態,有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。接下來本文將簡單介紹硅片清洗機工作原理是什么以及硅片清洗機操作說明,一起到文中來看看吧!

一、硅片清洗機工作原理是什么

硅(gui)片清(qing)(qing)洗(xi)機是利用超聲波(bo)(bo)清(qing)(qing)洗(xi)技術,在清(qing)(qing)洗(xi)過程(cheng)中超聲波(bo)(bo)頻率(lv)在合理的范(fan)圍(wei)內往復掃動,帶動清(qing)(qing)洗(xi)液形成(cheng)細微回流,使工件(jian)污(wu)垢在被超聲剝離(li)的同時(shi)迅(xun)速(su)帶離(li)工件(jian)表面,提高清(qing)(qing)洗(xi)效率(lv)。

具體(ti)的原理有以(yi)下:

1、真空脫氣(qi),有(you)效(xiao)去除液體中氣(qi)體,且運用(yong)拋(pao)動功能,增強超(chao)聲(sheng)對工(gong)件(jian)表面油污(wu)(wu)和(he)污(wu)(wu)垢的清(qing)洗能力(li),縮(suo)短清(qing)洗時間。

2、洗籃轉動機構,重(zhong)疊不可分(fen)拆的零(ling)件或(huo)形狀(zhuang)復雜(za)的零(ling)件,也可做到均勻完(wan)整的清洗。

3、減(jian)壓真空(kong)系(xi)統,能吸出盲孔、縫(feng)隙(xi)及疊(die)加(jia)零(ling)件之間的空(kong)氣(qi),使超聲(sheng)波在減(jian)壓的狀(zhuang)態下產生驚人的清洗(xi)效果。

4、真空(kong)蒸汽(qi)清洗(xi)(xi)+真空(kong)干燥系統,利用(yong)蒸汽(qi)洗(xi)(xi)凈做(zuo)養(yang)護,完美(mei)實現清洗(xi)(xi)效果。

5、蒸(zheng)汽清洗、干燥(zao)及清洗液加熱的全過程在(zai)減壓真空中進(jin)行,更有效地確(que)保了安全性。

6、防爆配件及簡(jian)潔加熱系統,進(jin)一步提高安(an)全度。

該圖片由注冊用戶"淺嘗不止—"提供,版權聲明反饋

二、硅片清洗機操作說明

1、欲清洗工件放(fang)入(ru)料(liao)(liao)框內(nei)專(zhuan)用固定(ding)夾內(nei),由人工將(jiang)料(liao)(liao)框放(fang)上(shang)入(ru)料(liao)(liao)口(kou),等工位機械手自(zi)動將(jiang)料(liao)(liao)框送(song)入(ru)清洗機本體,上(shang)下提升機構(gou)依照PLC指定(ding)的(de)程序將(jiang)料(liao)(liao)框搬送(song)到相應高度位置。

2、完(wan)成(cheng)對工件(jian)的(de)清洗、噴淋(lin)、漂洗、慢(man)提(ti)拉脫(tuo)水(shui)和(he)熱(re)風干燥后(hou)、送至(zhi)清洗機出口,運(yun)送到卸料臺出料,等工位機械手由氣缸橫(heng)向(xiang)驅動,直(zhi)線滑軌(gui)導向(xiang)。

3、上(shang)(shang)下提(ti)(ti)升(sheng)由(you)馬達驅(qu)動,直線(xian)導軸導向,慢提(ti)(ti)拉提(ti)(ti)升(sheng)機構由(you)變頻(pin)馬達驅(qu)動,直線(xian)滑塊(kuai)導向,上(shang)(shang)下料(liao)由(you)上(shang)(shang)下提(ti)(ti)升(sheng)機構獨立完(wan)成,采用觸(chu)摸屏(ping)操(cao)作(zuo)系統(tong),有手動和自動切換開關及(ji)有關操(cao)作(zuo)按鈕,能對(dui)整個運行過程(cheng)實行控制。

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