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硅片清洗機工作原理是什么 硅片清洗機操作說明

本文章由注冊用戶 淺嘗不止— 上傳提供 2023-07-20 評論 0
摘要:半導體器件生產中硅片須經嚴格清洗,即使是微量污染也會導致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質,包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態或離子狀態,有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。接下來本文將簡單介紹硅片清洗機工作原理是什么以及硅片清洗機操作說明,一起到文中來看看吧!

一、硅片清洗機工作原理是什么

硅片清(qing)(qing)洗(xi)(xi)機(ji)是利用超聲(sheng)波清(qing)(qing)洗(xi)(xi)技術,在清(qing)(qing)洗(xi)(xi)過程中超聲(sheng)波頻率在合理的(de)范圍(wei)內往復掃動,帶動清(qing)(qing)洗(xi)(xi)液(ye)形成細微回(hui)流,使(shi)工件(jian)污(wu)垢在被超聲(sheng)剝離的(de)同(tong)時迅速帶離工件(jian)表面,提高(gao)清(qing)(qing)洗(xi)(xi)效率。

具體的原理有(you)以下:

1、真空脫氣(qi),有(you)效去除液體中(zhong)氣(qi)體,且運(yun)用拋動功能,增(zeng)強(qiang)超(chao)聲對工件表(biao)面(mian)油污和污垢的清洗能力,縮短清洗時間。

2、洗(xi)籃(lan)轉動機構,重疊不可分拆的(de)(de)零件或形狀復雜的(de)(de)零件,也可做到(dao)均勻完整的(de)(de)清洗(xi)。

3、減(jian)壓真空系統,能吸出盲孔、縫隙及疊加零(ling)件之(zhi)間的空氣,使(shi)超聲波在減(jian)壓的狀態下產生驚人(ren)的清洗效果。

4、真空蒸汽(qi)清洗+真空干燥(zao)系統,利用(yong)蒸汽(qi)洗凈做養護,完美實現(xian)清洗效果。

5、蒸汽清洗、干燥及清洗液加(jia)熱的全(quan)過程在減(jian)壓真空(kong)中進行(xing),更有效(xiao)地確(que)保了安(an)全(quan)性。

6、防爆配(pei)件及(ji)簡潔加熱系(xi)統,進一步提高安全度(du)。

該圖片由注冊用戶"淺嘗不止—"提供,版權聲明反饋

二、硅片清洗機操作說明

1、欲清洗工(gong)件放入(ru)料框(kuang)內專用固(gu)定夾內,由人(ren)工(gong)將(jiang)(jiang)料框(kuang)放上(shang)入(ru)料口,等工(gong)位機械手(shou)自動(dong)將(jiang)(jiang)料框(kuang)送入(ru)清洗機本體,上(shang)下提升機構(gou)依照PLC指定的程(cheng)序將(jiang)(jiang)料框(kuang)搬送到相應高度(du)位置。

2、完成對工件(jian)的清(qing)洗、噴淋(lin)、漂洗、慢提(ti)拉脫(tuo)水和熱風干(gan)燥后(hou)、送(song)(song)至清(qing)洗機出(chu)(chu)口,運送(song)(song)到卸(xie)料臺出(chu)(chu)料,等工位(wei)機械手由(you)氣缸橫向驅動,直線滑軌導向。

3、上(shang)下(xia)提(ti)(ti)升(sheng)由馬達驅(qu)動(dong),直線導(dao)軸(zhou)導(dao)向,慢提(ti)(ti)拉提(ti)(ti)升(sheng)機(ji)構(gou)由變頻馬達驅(qu)動(dong),直線滑塊(kuai)導(dao)向,上(shang)下(xia)料由上(shang)下(xia)提(ti)(ti)升(sheng)機(ji)構(gou)獨(du)立完成,采(cai)用觸摸(mo)屏操作(zuo)系(xi)統,有手(shou)動(dong)和自(zi)動(dong)切換(huan)開關及有關操作(zuo)按鈕(niu),能(neng)對整個運(yun)行(xing)過程實行(xing)控(kong)制。

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